Tuy nhiên, việc công bố một nguồn sáng EUV thử nghiệm chưa đồng nghĩa với khả năng chế tạo máy quang khắc hoàn chỉnh, đủ tiêu chuẩn vận hành ổn định và sản xuất chip ở quy mô công nghiệp. Khoảng cách công nghệ với ASML, doanh nghiệp Hà Lan đang thống lĩnh thị trường thiết bị quang khắc EUV thương mại, vẫn là thách thức lớn đối với tham vọng bán dẫn của Bắc Kinh.

Theo The Korea Herald, startup Trung Quốc Langdao Silex gần đây giới thiệu nguyên mẫu nguồn sáng EUV FlintNano LPP-OXXO, tuyên bố khoảng 90% linh kiện được sản xuất trong nước và đặt mục tiêu thương mại hóa trong vòng 3–5 năm. Tuy nhiên, các thông số hiệu năng được công bố hiện vẫn thấp đáng kể so với yêu cầu của hệ thống thương mại, trong khi nhiều dữ liệu kỹ thuật chưa được xác minh độc lập. 

Nguồn sáng EUV mới chỉ là bước khởi đầu

Theo thông tin do Langdao Silex công bố, nguyên mẫu của công ty có thể tạo ra công suất ánh sáng EUV hơn 15 watt với laser kích thích công suất 1.000 watt và hoạt động liên tục trong hơn 100 giờ. Nếu được xác nhận, đây là một bước tiến kỹ thuật đáng chú ý trong quá trình nghiên cứu nguồn sáng phục vụ quang khắc tiên tiến.

Tuy nhiên, công suất nguồn sáng được báo cáo vẫn thấp hơn nhiều so với mức khoảng 500 watt mà bài viết của The Korea Herald nêu là yêu cầu đối với các hệ thống thương mại; các hệ thống EUV hiện đại có thể đạt mức công suất trên 600 watt. Chuyên gia Ahn Jin-ho, giáo sư khoa học và kỹ thuật vật liệu tại Đại học Hanyang, cũng lưu ý rằng chưa rõ các thông số của nguyên mẫu được đo trong điều kiện nào và những dữ liệu quan trọng vẫn chưa được kiểm chứng độc lập. 

Quan trọng hơn, nguồn sáng chỉ là một trong nhiều bộ phận cấu thành máy quang khắc EUV. Một hệ thống hoàn chỉnh còn phải tích hợp nguồn sáng công suất cao, hệ thống quang học có độ chính xác cực lớn, cơ cấu định vị wafer, điều khiển chuyển động, môi trường chân không và các quy trình kiểm soát sai số. Tất cả phải phối hợp với nhau để tạo ra các mẫu mạch siêu nhỏ với độ chính xác và khả năng lặp lại đáp ứng yêu cầu sản xuất hàng loạt.

Đây chính là khác biệt giữa thành tựu trong phòng thí nghiệm và năng lực công nghiệp. Một nguyên mẫu có thể tạo ra ánh sáng EUV hoặc in được một mẫu mạch trong điều kiện thử nghiệm chưa đủ chứng minh rằng thiết bị có thể vận hành liên tục, đạt năng suất cao và bảo đảm tỷ lệ sản phẩm đạt chuẩn trong dây chuyền chế tạo chip.

Vì sao Trung Quốc khó bắt kịp ASML?

Công nghệ EUV sử dụng ánh sáng có bước sóng khoảng 13,5 nanomet để tạo ra những cấu trúc mạch cực nhỏ trên wafer silicon. Do hầu hết vật liệu thông thường hấp thụ ánh sáng ở bước sóng này, hệ thống không thể dựa vào các thấu kính quang học thông thường mà phải sử dụng những gương phản xạ đặc biệt, được chế tạo với độ chính xác rất cao và vận hành trong môi trường chân không.

Theo phân tích của The Korea Herald, các gương quang học do Zeiss của Đức cung cấp là một trong những thành phần có yêu cầu kỹ thuật khắt khe nhất. Bề mặt gương được cấu tạo từ nhiều lớp vật liệu siêu mỏng, trong đó có silicon và molybdenum, nhằm phản xạ ánh sáng EUV với độ chính xác cần thiết.

Nguồn sáng cũng là một bài toán kỹ thuật kéo dài nhiều thập kỷ. ASML đã hợp tác với Cymer của Mỹ và nhà sản xuất laser TRUMPF của Đức trong hơn 20 năm để phát triển công nghệ này, trước khi mua lại Cymer vào năm 2013. Quá trình nâng công suất, cải thiện độ ổn định và bảo đảm độ tin cậy của hệ thống đòi hỏi sự tích lũy lâu dài về kỹ thuật, vật liệu và kinh nghiệm vận hành.

Sự phụ thuộc lẫn nhau giữa các nhà cung cấp chuyên biệt cho thấy máy quang khắc EUV không đơn thuần là một thiết bị có thể sao chép bằng cách phát triển riêng lẻ từng bộ phận. Để đạt hiệu quả thương mại, toàn bộ hệ thống phải được tích hợp và tối ưu hóa đồng bộ. Ngay cả khi Trung Quốc đạt tiến bộ về nguồn sáng, nước này vẫn phải giải quyết hàng loạt bài toán về quang học, cơ khí chính xác, điều khiển và độ tin cậy trước khi có thể cạnh tranh trực tiếp với ASML. 

Tham vọng tự chủ bán dẫn gắn với cạnh tranh địa chính trị

Những tuyên bố về tiến bộ EUV cũng cần được nhìn nhận trong bối cảnh Trung Quốc đang chịu các biện pháp hạn chế tiếp cận thiết bị sản xuất chip tiên tiến từ Mỹ và các đồng minh. Việc phát triển công nghệ trong nước có ý nghĩa chiến lược đối với mục tiêu giảm phụ thuộc vào nguồn cung nước ngoài, đặc biệt trong bối cảnh bán dẫn ngày càng gắn chặt với năng lực AI, điện toán hiệu năng cao và an ninh công nghệ.

Các chuyên gia được The Korea Herald dẫn lời cho rằng việc công bố những nguyên mẫu EUV có thể mang nhiều mục tiêu cùng lúc: phát đi thông điệp rằng Trung Quốc vẫn có khả năng phát triển công nghệ dưới sức ép kiểm soát xuất khẩu, thể hiện kết quả của các chương trình đầu tư nhà nước và thu hút thêm nguồn vốn cho nghiên cứu.

Tuy nhiên, những động cơ này không có nghĩa thành tựu kỹ thuật là không có giá trị. Vấn đề nằm ở việc đánh giá đúng giai đoạn phát triển và không đồng nhất một nguyên mẫu với sản phẩm thương mại. Bài viết cũng nhắc lại rằng Trung Quốc từng gây chú ý với tuyên bố phát triển máy quang khắc ArF, nhưng theo chuyên gia Ahn Jin-ho, chưa có bằng chứng rõ ràng về việc công nghệ đó được sử dụng trong sản xuất hàng loạt.

Ở cấp độ rộng hơn, Trung Quốc được cho là đang triển khai chương trình phát triển EUV có sự tham gia của Huawei, các nhà sản xuất thiết bị nội địa, viện nghiên cứu và lực lượng kỹ sư quy mô lớn. Reuters từng đưa tin một nhóm gồm cả cựu kỹ sư ASML đã hoàn thành nguyên mẫu máy EUV tại phòng thí nghiệm an ninh cao ở Thâm Quyến vào đầu năm 2025. Tuy nhiên, hệ thống được đề cập vẫn chưa sản xuất được chip hoạt động. Mục tiêu của Bắc Kinh là tiến tới sản xuất chip vào năm 2028, trong khi những người am hiểu dự án cho rằng mốc năm 2030 thực tế hơn. 

Bài toán không chỉ là phát triển thiết bị, mà còn là xây dựng hệ sinh thái

Giám đốc điều hành ASML Christophe Fouquet đã tỏ ra thận trọng trước những tuyên bố về khả năng Trung Quốc sớm tạo ra đối thủ cạnh tranh trực tiếp. Theo ông, dự đoán về việc Trung Quốc phát triển được thiết bị có thể cạnh tranh với ASML đã xuất hiện trong nhiều năm, nhưng những tiến bộ thực tế cần được đánh giá dựa trên kết quả kỹ thuật cụ thể.

Nhận định này phản ánh rào cản căn bản của ngành thiết bị bán dẫn: lợi thế cạnh tranh không chỉ đến từ một phát minh đơn lẻ mà còn từ mạng lưới nhà cung cấp chuyên sâu, năng lực tích hợp hệ thống, quy trình kiểm định, dịch vụ kỹ thuật và kinh nghiệm hỗ trợ khách hàng trong môi trường sản xuất thực tế.

Đối với Trung Quốc, tự chủ EUV vì vậy là một dự án công nghiệp dài hạn, đòi hỏi đầu tư đồng thời vào vật liệu, quang học, laser, cơ khí chính xác, phần mềm điều khiển và năng lực sản xuất thiết bị. Những tuyên bố về nguyên mẫu có thể cho thấy tiến trình nghiên cứu đang tiếp tục, nhưng chưa đủ cơ sở để kết luận khoảng cách với ASML sẽ sớm được thu hẹp.

Đối với ngành bán dẫn toàn cầu, cuộc đua EUV cho thấy các mắt xích thiết bị và công nghệ chế tạo đang trở thành trọng tâm của cạnh tranh chiến lược. Với Việt Nam, đây cũng là lời nhắc rằng tham gia sâu hơn vào chuỗi giá trị bán dẫn không chỉ có nghĩa là thu hút nhà máy lắp ráp hay đóng gói, mà còn cần phát triển năng lực kỹ thuật, nhân lực chuyên môn, công nghiệp hỗ trợ và hợp tác nghiên cứu dài hạn. Trong một ngành có rào cản công nghệ cao như bán dẫn, việc xây dựng năng lực bền vững đòi hỏi quá trình tích lũy có hệ thống, thay vì chỉ dựa vào những tuyên bố về đột phá công nghệ.